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PRODUCTS CENTER當前位置:首頁產(chǎn)品中心同位素分析實驗耗材及設備酸純化器ZH-GCS亞沸酸純化儀
亞沸酸純化儀,提純優(yōu)化酸的質(zhì)量,是為經(jīng)濟可行的途徑,我廠的酸純化器可用于實驗室如HNO3、HCl、HF、堿溶液和有機溶劑的純化,純化后的酸和Merck的一樣好,實驗后期可配套我單位Teflon特氟龍系列試劑瓶收取高純酸。
產(chǎn)品分類
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一、產(chǎn)品簡介:
酸純化儀:又稱酸純化系統(tǒng),高純酸提純器,酸試劑提純器,高純酸蒸餾純化器等,實驗室工作中常常由于酸的純度較差,造成分析結(jié)果的偏差與錯誤。市售的超純酸往往由于價格較貴,很難滿足日常分析中對酸的大量需求。
高純酸純化儀2000ml+全自動器皿清洗裝置,因此,提純優(yōu)化酸的質(zhì)量,是為經(jīng)濟可行的途徑,我廠的酸純化器可用于實驗室如HNO3、HCl、HF、堿溶液和有機溶劑的純化,純化后的酸和Merck的一樣好,實驗后期可配套我單位Teflon特氟龍系列試劑瓶收取高純酸。
二、工作原理:
酸純化儀是利用熱輻射原理,保持液體溫度低于沸點溫度蒸發(fā),再將其酸蒸氣冷凝從而制備高純水和高純試劑,廣泛應用于樣品處理及分析實驗中。
三、亞沸酸純化儀產(chǎn)品特點:
1、可以滿足ICP、ICP-MS低的檢測限需要及苛刻的分析應用中提供實驗室級超純酸,所用容器均采用Teflon耐腐蝕無吸附塑料,保證了容器內(nèi)外的純凈度,全部采用高純凈的特氟龍材料可以避免其他金屬雜質(zhì)的介入,也可以使得在酸環(huán)境下的提取中更好的操作,控制盒分離保護了電子元器件被腐蝕,延長了使用壽命??商幚砣鏗NO3、HCl、HF等實驗室的常用酸。
2、實驗證明將金屬雜質(zhì)含量約10ppb的酸經(jīng)過一次蒸餾后,金屬雜質(zhì)含量可以降低到0.01ppb左右。若對酸要求更高,可增加提純次數(shù),酸純化的則越純凈。
四、亞沸酸純化儀相關參數(shù):
型號 | CH-I 500ml | CH-II 1000ml | CH-Ⅲ 2000ml |
名稱 | 酸純化器 | 酸純化器 | 酸純化器 |
產(chǎn)酸率 | 30ml/h | 50ml/h | 70ml/h |
溫控方式 | PID溫控數(shù)顯 | PID溫控數(shù)顯 | PID溫控數(shù)顯 |
控溫精度 | ±1℃ | ±1℃ | ±1℃ |
材質(zhì) | FEP、PTFE、硅膠 | ||
電壓 | 220V/50Hz | ||
功率(W) | 350 | ||
優(yōu)勢 | 1.密閉環(huán)境下提純酸,不受環(huán)境污染,確保酸純度 | ||
2.純FEP、PTFE材質(zhì)制造,空白值低無腐蝕 | |||
3.技術(shù)先進,結(jié)構(gòu)合理,操作簡單,一鍵式操作,蒸干自我保護 | |||
4.提純過程中,極少量酸氣逸出 | |||
5.節(jié)約成本,方便實驗:較短時間內(nèi)純化低成本的酸試劑以達到痕量分析要求 |
使用注意事項:
1、所有配件(控制器、電源線、加熱片等除外)放入按實驗要求一定濃度的酸液中浸泡,去除雜質(zhì)。
2、加酸前必須做好個人防護如:防濺眼鏡、防酸手套等(蒸水除外)。
【電子級酸】:
適用于半導體生產(chǎn)過程中所用產(chǎn)品的清洗和蝕刻以及痕量金屬元素殘留分析,根據(jù)質(zhì)控的金屬元素含量的數(shù)量和含量,劃分為4個級別:MOS級,VLSI級,ULSI級,SLSI級
MOS級(EL級):控制十多個金屬元素,單項金屬元素雜質(zhì)控制在100PPb左右
VLSI級:控制三十多個金屬元素,單項金屬元素雜質(zhì)控制在10~100PPb
ULSI級:控制三十多個金屬元素,單項金屬元素雜質(zhì)控制在10PPb以下
SLSI級:控制三十多個金屬元素,單項金屬元素雜質(zhì)控制在1PPB以下
所謂的電子級酸,其實就是ppb或者ppt級的高純酸。
實驗數(shù)據(jù)(僅供參考):儀器:CH-I 酸純化器;試劑:優(yōu)級純的HF
蒸餾后,經(jīng)中國地質(zhì)大學地質(zhì)過程與礦產(chǎn)資源國家重點實驗室ICP-MS檢測出HF中雜質(zhì)的含量:
元素 | 測量濃度(ng/g=ppb) | 元素 | 測量濃度(ng/g=ppb) |
Be | <0.01 | Ba | <0.01 |
Mg | <0.02 | La | <0.01 |
Sc | <0.01 | Ce | <0.01 |
V | <0.01 | Pr | <0.01 |
Cr | <0.03 | Nd | <0.01 |
Mn | <0.01 | Eu | <0.01 |
Co | <0.01 | Gd | <0.01 |
Ni | <0.01 | Tb | <0.01 |
Zn | <0.02 | Er | <0.01 |
Ga | <0.01 | Tm | <0.01 |
Rb | <0.01 | Yb | <0.01 |
Sr | <0.02 | Lu | <0.01 |
Zr | <0.01 | Hf | <0.01 |
Cd | <0.01 | Pb | <0.01 |
Sn | <0.01 | Th | <0.01 |
Cs | <0.01 | U | <0.01 |
全自動器皿清洗裝置采用亞沸騰原理用蒸汽循環(huán)反復對流以及冷凝淋洗,潔凈的樣品反應管是獲得正確分析結(jié)果的前提,傳統(tǒng)的清洗方法是把實驗室容器置于酸缸或熱酸中浸泡數(shù)小時甚至更長時間,這種方法不僅效率低、易造成大量的酸消耗,而且為了避免帶來交叉污染,需要定期更換酸,否則將給實驗數(shù)據(jù)帶來巨大的風險。而我廠研發(fā)的全自動器皿清洗裝置確保了痕量分析和超痕量分析的準確性。
1、名稱:全自動器皿清洗裝置,型號:SQ-210型 SQ-330型
2、清洗對象:適配我廠PFA溶樣罐(7、15、30、60ml)、鋼套消解罐內(nèi)襯(10ml等)、各廠家微波消解儀內(nèi)罐(如美國CEM、邁爾斯通、、屹堯、新儀、海能、新拓、萊伯泰科等廠家)、各類消解管、離心管、試管、燒杯、坩堝、試劑瓶等實驗室常用器皿以及石英罐。甚至用于ICP的霧化室和火炬管等的痕量清洗。
3、主要材質(zhì)
(1)腔體為高純所有與器皿接觸的部分均為高純實驗級PTFE材質(zhì);
(2)加熱系統(tǒng)可按照客戶要求做成節(jié)能環(huán)保型的硅膠加熱片,功率為350W。
工作原理
利用亞沸的HF 、HCL 、HNO3、H?SO?、高純水、堿類等等實驗室常用酸、堿等常用溶劑的熱蒸汽來清洗反應管、試管、消解管、燒杯、坩堝、容量瓶等實驗室常用器皿。整個清洗過程是通過加熱片加熱產(chǎn)生的高純酸堿蒸氣對器皿的反復對流和冷凝淋洗作用下完成的,環(huán)保無污染;清洗器采用空氣冷卻而無需額外冷卻水,可以實現(xiàn)經(jīng)濟安全的過夜工作,與常規(guī)的清洗或酸泡方法相比,蒸汽清洗法的清洗效果更好、更加潔凈無污染。
數(shù)據(jù)說明
PPb級的清洗結(jié)果利用酸蒸清洗系統(tǒng)清洗后,結(jié)果證明,含PPM級金屬污染的容器可以降低為PPb級。
三、儀器優(yōu)勢
1、無需浸泡快速清洗各種用于痕量分析使用的容器及配件;
2、只有高純酸蒸汽接觸要清洗的容器表面,清洗更*;
3、洗凈的容器可以在密閉的腔體內(nèi)冷卻干燥,不會造成任何污染;
4、配有高校冷卻效果,酸可以循環(huán)使用,減少溶劑的損耗,節(jié)省成本;
5、酸蒸發(fā)過程相當于酸的純化過程,清洗殘留更小,更潔凈;
6、自動溫度控制系統(tǒng),準確控溫;
7、密閉條件下進行酸蒸氣超凈清洗,防止實驗室污染;
8、專業(yè)設計,結(jié)構(gòu)簡單,操作方便,操作人員無需培訓;
9、適用痕量分析器皿清洗,PFA及PTFE溶樣罐、微波消解罐內(nèi)罐、燒杯、消解管、試管等;
10、一次性處理量多達26、52、104個樣品(根據(jù)器皿大小而定),也可以根據(jù)器皿高矮設計成多層,更加高效,快捷;
四、特別說明:
1、清洗器皿外徑在30mm 及以外, 桶總高度:260mm, 桶外徑210mm, 一層26孔 (可做3層,即一次性可清洗78個樣品);
2、清洗器皿外徑在30mm 及以內(nèi), 桶總高度:280mm, 桶外徑330mm, 一層50孔(可做3層,即一次性可清洗150個樣品);
3、以上所說的樣品數(shù)量是以我廠10ml消解罐內(nèi)襯或PFA 15ml溶樣罐為參考,若是其他細長器皿,可根據(jù)實際長度設計層數(shù)和批次處理量;也可以按照客戶需求進行定向加工。
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